PVD
PVD是真空环境下通过物理方式将材料源气化,使原子 / 分子 / 离子迁移并沉积在基体表面形成功能薄膜的表面涂层技术,核心优势是涂层致密耐磨、结合力强、绿色环保。相对于传统电镀技术,PVD技术能够使膜层更加致密均匀,硬度可达 HV2000 以上,耐磨性、耐腐蚀性、耐高温性(部分可达 600℃)显著提升,使用寿命延长 3-5 倍,还可实现抗菌、导电等特种功能。广泛用于刀具、电子、装饰等领域。

PVD是真空环境下通过物理方式将材料源气化,使原子 / 分子 / 离子迁移并沉积在基体表面形成功能薄膜的表面涂层技术,核心优势是涂层致密耐磨、结合力强、绿色环保。相对于传统电镀技术,PVD技术能够使膜层更加致密均匀,硬度可达 HV2000 以上,耐磨性、耐腐蚀性、耐高温性(部分可达 600℃)显著提升,使用寿命延长 3-5 倍,还可实现抗菌、导电等特种功能。广泛用于刀具、电子、装饰等领域。
